取消
EVG双面曝光机/EVG双面光刻机/涂胶显影机/世界标杆工艺技术

EVG双面曝光机/EVG双面光刻机/涂胶显影机/世界标杆工艺技术

杭州五光科技有限公司
所在地:上海 上海
最新产品 进入店铺
  • 详情
  • 联系方式

EVGoup China


上海办事处 :  张先生

 

咨询热线:133-718-58581  


 地址:上海市闵行区沪闵路6259号A-706室 



成立于1980年,公司总部及制造厂均位于奥地利,在美国,日本和台湾有分公司,在全球各地均有销售代理及售后服务部。

目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。

EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备,可以是半自动也可以配置为全自动形式。EVG620既可以用作双面光刻机也可以用作150mm硅片的精确对准设备;既可以用作研发设备,也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升,进而降低生产成本。EVG620先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时,大幅提高了产能。

 

二、应用范围

EVG光刻机主要应用于MEMS、硅片凸点、芯片封装以及化合物半导体、功率器件和光电市场。

 

三、主要特点

 

1. 高分辨率的顶部和底部显微镜

2. 双面光刻和键合对准工艺







3. 自动的微米计控制曝光间距







4. 自动契型补偿系统








5. 优异的全局光强均匀度







6. 快速更换不同规格尺寸的硅片







7. 高度自动化系统








8. Windows图形化用户界面

9. 可选配Nanoalign技术包以达到更高的工艺能力

10. 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选

11. 光刻工艺模拟软件可选

12. 三花篮上料台,可选五花篮台








以上为"EVG双面曝光机/EVG双面光刻机/涂胶显影机/世界标杆工艺技术"供应信息
相关推荐
产品分类 更多 >
新品速递 查看更多 >
中国供应商> 电子产品制造设备> 其他电子产品制造设备> EVG双面曝光机/EVG双面光刻机/涂胶显影机/世界标杆工艺技术