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二手进口手机后盖渐变色镀膜机/手机壳七彩膜镀膜机

参数
  • 进口原装产品特性
  • 是否进口
  • 韩国产地
广东 东莞 1天内发货 5台
东莞市准纳光电科技有限公司 3年
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产品详情

二手进口手机后盖渐变色镀膜机/手机壳七彩膜镀膜机/手机玻璃镜片镀膜机可租可售设备介绍

区分韩一HVC-1600DA
MODELHVC-1600DA
NO2019年,2015年,,2014年
EB(电子枪)1GUN,,韩一  12穴
离子源

韩一,(霍尔)
机械泵爱德华EM275
罗茨泵爱德华EM2600
深冷韩国V-PLUS1000H
晶控XTC + 2个晶控
阻蒸1个
制造日2019年,2015年,,2014年

韩一车载片/摄像头/保护片玻璃镜片镀膜机 真空涂层机涂层是指在真空中制备单质或化合物薄膜,包括金属、半导体、绝缘体等。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空涂层是指通过物理方法沉积薄膜。真空镀膜机的镀膜方法有蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。 蒸发涂层:某种物质通过加热蒸发沉积在固体表面,称为蒸发涂层。现代已成为常用的涂层技术之一。 蒸发源有三种类型: ①电阻加热源:用钨、钽等难熔金属制成舟箔或丝状,用电流加热上方或放置在坩埚中的蒸发物。电阻加热源主要用于蒸发CD、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料; ②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物; ③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料蒸发。与其它真空涂层方法相比,蒸发涂层沉积速***,可镀单质和不易热分解的化合物膜。 溅射涂层:当用高能粒子轰击固体表面时,固体表面的粒子能获得能量,逃离表面,沉积在基板上。将要沉积的材料制成板-靶,固定在阴极上。将基片放置在阳极对面的靶面上,距靶面几厘米。系统抽取高真空,然后填充高真空 10~1帕气体(通常是氩气)在阴极和阳极之间加入几千伏电压,两极之间产生光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极,与靶表面原子发生碰撞。从靶表面逃逸的靶原子被称为溅射原子,其能量在1到几十个电子伏范围内。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发涂层不同,溅射涂层不受膜材料熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可以通过反应溅射反应气体 (O、N、HS、CH等。)加入Ar气体,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应,产生化合物(如氧化物、氮化物等)。).)并沉积在基板上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基板安装在接地电极上,绝缘靶安装在对面电极上。高频电源的一端接地,一端通过匹配网络和隔离直流电容器连接到装有绝缘靶的电极。高频电源接通后,高频电压极性不断变化。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别击中绝缘靶。由于电子迁移***于正离子,绝缘目标表面带负电,当达到动态平衡时,目标处于负偏置电位,使正离子继续溅射目标。与非磁控溅射相比,使用磁控溅射可以使沉积速率提高近一个数量级。离子镀:电子碰撞电离后,蒸发物质的分子以离子沉积在固体表面,称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。以基板为阴极,外壳为阳极,充满惰性气体(如氩),产生光放电。当蒸发源蒸发的分子通过等离子体区域时,就会发生电离。正离子被基板的负电压加速到基板表面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也沉积在基板或真空室壁表面。电场对离化蒸汽分子的加速作用(离子能量约几百~几千个电子伏)和氩离子溅射清洗基板,大大提高了膜层的附着强度。离子镀工艺结合了蒸发(高沉积率)和溅射(良好的膜附着力)工艺的特点,具有良好的绕射性,可用于复杂形状的工件镀膜。

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二手设备清单

二手机械库存明细

 

双面抛光机系列:

日本:hamai16B   speedfam16B  21B 28B  30B  40B 双面抛光研磨机

德国:Peter Wolters 319/320系列双端面抛光机

国产:金研/宇晶9.6B  9S 9B  13B 15B 16B 20B

 

镀膜机械系列:

日本:光弛OTFC-1300/1550/2350

德国:莱宝:1300

台湾:龙翩LP-1400/1650/1800

韩国:韩一 1200  联合2050

南光:1100/1300

 

检测仪器:

日本岛津UV-1800  UV-1900i UV-2600i分光光度计

日 立   :2900/4000/4001/4150 光谱仪

二次元/三次元(2010/3020/4030.......)

 

一批二手仿形机120/175MM

一批无尘洁净台2.44*1.2*1.95米

一批10-13槽半自动超声波清洗机

一批DISCO自动切割机3350  3320

 

 


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